主要特点：

1.      操作方便且有记忆功能，首chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；

2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；

3.      通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。

日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

• 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径：60 mm

• 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度：20 mm

特点：

• 采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件

• 可处理较厚或较大的样品(选配件)

• 记忆功能可存储常用加工条件

规格：