我公司研发生产的CVD系统集真空管式炉，多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产，各款管式炉，气路系统和真空机组可多种方式组合，真空泵、阀均采用进口产品，性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品特点
1.该设备生长温度更低
2.使用滑轨炉实现快速升温和降温，沉积速率快
3.设备辉光均匀等效，均匀生长，成膜质量好
4.支持外部真空规和压力变送器
5.支持智能进气，根据需要设定不同的温度，自动进气，进气定时间到后自动停止进气
6.支持云端数据存储，随时查看数据
7.支持炉膛移动速度调节
8.支持射频电源根据外部工况条件自动启动停止
9.支持压力恒定，压力可以设定
10.支持超压保护，压力值可以设定，超过后系统自动进入保护状态