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单喷头干冰清洗工作图 | |
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单喷头干冰清洗速度压力仿真 |
类 | 序号 | 清洗方法 | 异物粒子祛除 | 膜层祛除 | 对物件的损伤 | 干燥工序 | 环境污染 | 难题 |
湿法 | 1 | 纯水 | 一般 | 较差 | 一般 | 要 | 差 | 水膜再着附,金属元素残留 |
2 | 有机溶剂 | 一般 | 较好 | 较大 | 要 | 大 | 有机溶剂再着附,溶剂后处理 | |
干法 | 3 | 纳米干冰 | 很好 | 易 | 较低 | 无 | 无 | 清洗面积较小 |
4 | 超声波 | 一般 | 难 | 一般 | 无 | 无 | 固体异物,微细颗粒难除净 | |
5 | 空气 | 一般 | 难 | 一般 | 无 | 无 | 固体异物,微细颗粒难除净 | |
6 | 大气等离子 | 易 | 一般 | 较大 | 无 | 无 | 清洗能力较差 |
型号 | 半导体清洗机WMGB01 |
外形尺寸 | 450×500×300 |
重量 | 20Kg |
电源 | 220V 50Hz 单相 |
功率 | 2kW |
CO2喷射系统 | |
CO2 | 液态 |
CO2压力 | ≥5.5MPa |
喷嘴规格 | 0.1mm~4mm |
CO2消耗量 | 50~200g/min |
CO2恒温系统 | |
介质 | - |
容量 | - |
温度调节范围 | - |
CO2增压系统 | |
驱动介质 | - |
驱动气压 | - |
增压比 | - |
增压量 | - |
CDA辅助系统 | |
CDA气体 | 压缩空气/氮气 |
CDA压力 | 0.1~0.8MPa |
CDA温度调节 |
选配 |