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光学干涉法膜厚检测仪 (台式)
A3-SR宽光谱反射式多功能测量系统利用光谱相干测量学原理,用于实验室检测各类薄膜涂层厚度(克重),也可以在膜厚测量中同时测量反射率(透射率)、目标颜色。
详细参数
特性
多达15点同时测量
无参照物工作
通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
提醒及警报功能(通过或失败)
反射(透射)和光谱测量
高速、高准确度
实时测量
不整平薄膜精确测量
分析光学常数(n,k)
可外部控制
膜厚测量原理和特性
分光干涉法测量膜厚
当光入射到样品内部,会发生多重反射现象,多重反射光会由于相互之间的相位差增强或减弱,而相位差取决于样品的折射率和光程,因此来自于样本的反射光谱与其厚度有直接关系。光谱干涉法就是利用这种独特的光谱分析出样品的厚度,该厚度测量仪器根据测试范围的不同主要使用曲线拟合和FFT两种方法对光谱进行分析。
测量显示屏幕
参数
型号 |
A3-SR |
可测膜厚范围 |
20 nm to 100 μm*2 |
测量可重复性 |
0.02 μm*3 *4 |
测量准确 |
±1%*4 *5 |
光源 |
氙灯 |
测量波长 |
320 nm to 1000 nm |
光斑尺寸 |
约φ1 mm*4 |
工作距离 |
10 mm*4 |
可测层数 |
最多10层 |
分析 |
FFT 分析,拟合分析 |
测量时间 |
19 ms/点*7 |
光纤接口形状 |
SMA |
测量点数 |
2~15 |
外部控制功能 |
Ethernet |
接口 |
USB 2.0(主单元与电脑接口) |
电源 |
AC100 V — 240 V, 50 Hz/60 Hz |
功耗 |
约330W(2通道)~450W(15通道) |
*1:-XX,表示测点数
*2:以 SiO2折射率1.5来转换
*3:测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*4:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*5:可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*6:卤素灯型为C11295-XXH
*7:连续数据采集时间不包括分析时间